Discrimen inter laminam cupream volubilem (laminam cupream RA) et laminam cupream electrolyticam (laminam cupream ED)

Lamina aeneaMateria necessaria est in fabricatione tabularum circuituum, quia multas functiones habet, ut nexum, conductivitatem, dissipationem caloris, et protectionem electromagneticam. Eius momentum per se manifestum est. Hodie vobis explicabo de...lamina aenea volubilis(RA) et Differentia interlamina aeris electrolytici(ED) et classificatio laminae cupreae PCB.

 

Lamina aenea PCBMateria conductiva est ad connectenda elementa electronica in tabulis circuitis adhibita. Secundum processum fabricationis et efficaciam, lamina cuprea PCB in duas categorias dividi potest: laminam cupream involutam (RA) et laminam cupream electrolyticam (ED).

Classificatio PCB cupri f1

Lamina aenea involuta ex puro cupro per continuam volutationem et compressionem fit. Superficiem lenem, asperitatem humilem, bonam conductivitatem electricam habet, et ad transmissionem signorum altae frequentiae apta est. Attamen pretium laminae aeneae involutae maius est et crassitudo limitata, plerumque inter 9 et 105 µm.

 

Lamina cuprea electrolytica per depositionem electrolyticam in lamina cuprea obtinetur. Una pars levis est, altera aspera. Pars aspera substrato adhaeret, lana autem ad galvanoplastiam vel corrosionem adhibetur. Commoda laminae cupreae electrolyticae sunt pretium minus et lata crassitudinis varietas, plerumque inter 5 et 400 µm. Attamen, asperitas superficialis magna est et conductivitas electrica mala, ita ut ad transmissionem signorum altae frequentiae non apta sit.

Classificatio laminae cupreae PCB

 

Praeterea, secundum asperitatem laminae cupreae electrolyticae, in sequentes genera ulterius subdividi potest:

 

HTE(Elongatio Altae Temperaturae): Lamina cuprea elongata altae temperaturae, praecipue in tabulis circuitis multistratis adhibita, bonam ductilitatem altae temperaturae et robur nexus habet, et asperitas plerumque inter 4-8 µm est.

 

RTF(Lamina aenea inversa tractata): Lamina aenea inversa tractatur, resina specifica in latere levi laminae aeneae electrolyticae adhibita, ut glutinum efficiat et asperitas minuatur. Asperitas plerumque inter 2-4 µm est.

 

ULP(Profilo Humilissimo): Lamina aenea humilissima, processu electrolytico speciali fabricata, asperitatem superficialem infimam habet et ad transmissionem signorum celerrimam apta est. Asperitas plerumque inter 1-2 µm est.

 

HVLP(High Velocity Low Profile): Lamina aenea celeris et humilis formae. In ULP fundata, celeritate electrolysis aucta fabricatur. Asperitatem superficialem minorem et efficientiam productionis maiorem habet. Asperitas plerumque inter 0.5 et 1 µm est.


Tempus publicationis: XXIV Maii MMXXIV